PVD技能常用的办法

PVD根本办法：真空蒸腾、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、活性反响离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀），以下介绍几种常用的办法。

电子束蒸腾

电子束蒸腾是运用聚集成束的电子束来加热蒸腾源，使其蒸腾并堆积在基片外表而构成薄膜。

特征：真空环境；蒸腾源资料需加热熔化；基底资料也在较高温度中；用磁场操控蒸腾的气体，然后操控生成镀膜的厚度。

溅射堆积

溅射是与气体辉光放电相联系的一种薄膜堆积技能。溅射的办法许多，有直流溅射、RF溅射和反响溅射等，而用得较多的是磁控溅射、中频溅射、直流溅射、RF溅射和离子束溅射。

特征：在真空室内充入放电所需求的惰性气体(如氩气)，在高压电场效果下气体分子因电离而发生很多正离子。带电离子被强电场加快，便构成高能量的离子流炮击蒸腾源资料(称为靶)。在离子炮击下，蒸腾源资料的原子将脱离固体外表，以高速度溅射到基片上并堆积成薄膜。

RF(射频)溅射

RF溅射运用的频率约为13.56MHz，它不需求热阴极，能在较低的气压和较低的电压下进行溅射。RF溅射不光能够堆积金属膜，并且能够堆积多种资料的绝缘介质膜，因而运用范围较广。

电弧离子镀

阴极弧技能是在真空条件下，经过低电压和高电流将靶材离化成离子状况，然后完结薄膜资料的堆积，该技能资料的离化率更高，薄膜功能愈加优异。

过滤阴极弧

过滤阴极电弧(FCA )配有高效的电磁过滤体系，可将弧源发生的等离子体中的微观大颗粒过滤掉， 因而制备的薄膜十分细密和平坦润滑，具有抗腐蚀和抗老化功能好，与机体的结合力很强。

离子束

离子束加工是在真空条件下，先由电子枪发生电子束，再引进已抽成真空且充溢惰性气体之电离室中，使低压惰性气体离子化。由负极引出阳离子又经加快、集束等过程，取得具有必定速度的离子投射到资料外表，发生溅射效应和注入效应。因为离子带正电荷，其质量比电子大数千、数万倍，所以离子束比电子束具有更大的碰击动能，是靠微观的机械碰击能量来加工的